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大型HMDS真空烘箱，4門HMDS真空烤箱 是半導體光刻工藝中的關鍵設備，主要用于基片表面預處理，通過六甲基二硅氮烷（HMDS）涂布增強光刻膠與基片的黏附性。

硅烷沉積設備 抗粘劑蒸鍍系統(tǒng) 納米抗粘設備通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實現(xiàn)結構較好的轉移,復制.

抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機通過精確控制烘箱溫度（100-200℃）、處理時長及保持時間等參數(shù)，使氮烷（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三氯硅烷）沉積在襯底表面，生成疏水性的保護層，，將親水基片轉化為疏水性。該過程有效增大處理后的基片接觸角，減少光刻膠使用量約30%，同時提升膠層與基片的黏附強度?。

抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機 氣相沉積系統(tǒng) 硅烷偶聯(lián)劑（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等）作為一類重要的有機硅化合物，在材料表面改性、復合材料增強、涂層制備等眾多領域有著廣泛應用。

疏水處理設備 疏水性處理系統(tǒng) HMDS預處理是一種改善物體表面性質的技術，使其具有疏水性，即不易被液體濕潤。

表面疏水性處理設備 陶瓷玻璃疏水處理機通過氣相涂布硅烷偶聯(lián)劑HMDS實現(xiàn)陶瓷表面疏水性能的提高，陶瓷表面接觸角為118?135度，且疏水材料與陶瓷基體的的附著性能好。

納米陶瓷材料表面疏水HMDS處理系統(tǒng)生產工藝周期短，提高生產效率； 修飾液用量極少，節(jié)約成本90%； 閉環(huán)的工藝過程，安全系數(shù)高。